В ходе конференции SPIE Microlithography японская корпорация Nikon сообщила, что готова предоставить оборудование для производства микросхем с соблюдением норм 0,032-мкм техпроцесса. Образцом такого оборудования стал иммерсионный сканер NSR-S610C, использующий источник света с длиной волны 193 нм и обладающим численным значением апертуры (NA) 1,30. Как ожидается, официально NSR-S610C будет представлен чуть позже, в ходе конференции Semicon West.

Новый сканер также использует многоосевую катадиоптрическую оптическую схему, содержащую три отражающих элемента. Инструмент предназначен для производства микросхем памяти по нормам 45 нм и логических ИС по нормам 32 нм, поставки должны будут начаться в четвертом квартале 2006 года.

NSR-S610C построен по принципу, схожему с NSR-S609B (NA – 1,07). Представленный летом прошлого года, NSR-S609B предназначен для массового производства 55-нм чипов памяти и прототипов 45-нм ИС. Сообщается также, что первым покупателем инструмента стала корпорация Toshiba. NSR-S609B стал первым инструментом Nikon, в котором были использованы технологии Local Fill (локальное заполнение жидкостью, снижающее количество воздушных пузырьков) и Tandem Stage (двух-этапная схема для ускорения обработки пластин).

В то же время, конкурент Nikon, голландская компания ASML, готовится в ближайшее время начать поставки Twinscan XT:1700i, также предназначенного для производства с соблюдением норм 45-нм процесса. Сканер ASML использует катадиоптрическую оптическую схему с NA 1,2 и поляризованный источник света. За этот год ASML планирует продать от 20 до 25 систем Twinscan XT:1700i

http://www.eet.com/
http://www.ixbt.com/news/hard/index.shtml